A.结构简单B.镀膜速率慢C.基片温度低、损伤小D.靶材利用率高
单项选择题基片浸入预先制备好的溶胶中，以一定的速度将基片向上提出液面，这时在基片上会形成一层均匀的液膜，这种方法是（）
A.旋覆法B.喷涂法C.浸渍提拉法D.刷涂法
单项选择题在清洁的超高真空环境下，是具有一定热能的一种或多种分子束流喷射到晶体衬底，在衬底表面发生反应的成膜的技术是（）
A.化学气相沉积B.离子束辅助沉积C.多弧离子镀D.分子束外延
