多项选择题蒸镀工艺要求蒸镀室为高真空度的原因（）
A.为了避免蒸发分子（或原子）被氧化B.为了降低镀膜中的杂质C.为了减小蒸发分子（或原子）的平均自由程D.为了制备的镀膜表面更平坦
单项选择题PVD与CVD比较，下列哪种说法正确（）
A.CVD普适性更好B.PVD薄膜的保形性更好C.CVD工艺温度更低D.PVD薄膜与衬底的粘附性较差
