A.膜厚分布均匀B.沉积速率较低C.薄膜纯度高D.原料浪费少与小平面源相比，点蒸发源具有（）等特点。……

多项选择题‏PECVD中，等离子体的激励方式有（）。

A.电子回旋共振
B.直流电场
C.微波耦合
D.射频电场

多项选择题不同压力下，气体的流动状态可以分为（）。

A.粘滞流
B.粒子流
C.过渡流
D.分子流

单项选择题欲在一批小尺寸的基板上用小平面源蒸发沉积厚度一致的薄膜，基板相对于蒸发源应该放置在（）。

A.与小舟相切的球面上
B.与小舟垂直的球面上
C.与基板平行的方向上
D.与基板垂直的方向上

单项选择题真空蒸发中常用的电阻蒸发金属发热材料不包括（）。‌‏‌

A.钨/W
B.钼/Mo
C.镍/Ni
D.钽/Ta

单项选择题在溶液镀膜法中各列举一个制备Al2O3薄膜的方法是（）。

A.阳极氧化
B.射频溅射
C.电子束蒸发
D.MOCVD