欲在一批小尺寸的基板上用小平面源蒸发沉积厚度一致的薄膜，基板相对于蒸发源应该放置在（）。

单项选择题真空蒸发中常用的电阻蒸发金属发热材料不包括（）。‌‏‌

A.钨/W
B.钼/Mo
C.镍/Ni
D.钽/Ta

单项选择题在溶液镀膜法中各列举一个制备Al2O3薄膜的方法是（）。

A.阳极氧化
B.射频溅射
C.电子束蒸发
D.MOCVD

单项选择题在连续薄膜的形成过程中，下面哪一个不是涉及小岛合并的机理？（）

A.原子团的迁移
B.熔结过程
C.奥斯瓦尔多吞并过程
D.自发形核过程

单项选择题以下哪一个不是在不同压力下气体的流态？（）

A.分子流
B.离子流
C.黏滞流
D.过渡流

单项选择题磁控溅射比较难制备以下哪一种材料的薄膜？（）

A.钴
B.三氧化二铝
C.铝
D.氧化硅