A.HFB.HClC.HNO3D.H2SO4
单项选择题对于基体产生的质谱干扰,最常用的首选方法是()
A.去除基体B.数学校正法C.冷等离子技术D.碰撞/反应池
单项选择题传统的ICP-MS采用脉冲技术模式进行测量,动态线性范围只有()个数量级。
A.3B.4C.5D.6
单项选择题若相邻谱峰之间的峰底大小不超过两峰高平均值的()%,则认为两峰分离。
A.5B.10C.15D.20
单项选择题下列质量分析器中,应用最早的是()
A.四极杆B.双聚焦扇形磁场C.飞行时间D.碰撞/反应池
单项选择题ICP-MS截取锥的典型孔径大小为()mm,防止沉积及堵塞。
A.0.1~0.7B.0.2~0.8C.0.3~0.9D.0.4~1.0
单项选择题ICP-MS中,以下元素()可以通过还原剂将无机化合物还原成原子态进行测定。
A.汞B.铬C.砷D.铅
单项选择题ICP-MS()雾化器适用于灵敏度要求较高的分析应用。
A.同心B.交叉C.高盐D.超声
单项选择题由于同位素稀释法要求被测量的元素至少应有两个或两个以上的稳定同位素,因此目前在周期表的元素中只有()个元素符合这个条件。
A.51B.56C.61D.66
单项选择题冷等离子体技术采用的功率为()W。
A.200~500B.500~1000C.1000~1400D.1500~2000
单项选择题ICP-MS截取锥的锥口位于距形成马赫()处为截取锥的最佳位置。
A.1/3B.1/2C.2/3D.4/3
单项选择题ICP-MS交叉雾化器气体喷嘴位于液体喷嘴中心与边界之间()倍距离时,雾化器性能最佳。
A.0.5~1B.1~1.5C.1.5~2D.2~2.5
单项选择题ICP-MS雾化器只允许小于()μm的气溶胶雾滴进入等离子体。
A.1B.5C.10D.20
单项选择题ICP-MS在雾化气中加入(),对发现易形成难熔氧化物的待测元素极为有利。
A.氧气B.氦气C.氢气D.氖气
单项选择题ICP-MS是一种()分析技术,能够检测和测量样品中()元素的含量。
A.有机,有机B.无机,无机C.食品,食品D.材料,材料
单项选择题下面关于ICP-MS分析中空白分析说法不正确的是()
A.清洗空白溶液一般是2%体积分数的硝酸溶液,在测定样品过程中用来清洗仪器,以降低记忆效应干扰B.试剂空白也叫过程空白,是与样品处理过程一样加入相同体积的所有试剂,用来评价样品制备过程中可能的污染和背景谱干扰C.ICP-MS分析中改变样品种类(标准、空白、地表水样品、地下水样品等)时,无须清洗空白样品D.校准空白一般是一定体积分数的硝酸溶液,用来建立分析校准曲线