判断题当掩模版上的图形转移到下方薄膜材料上时，必须要考虑到光刻胶的性质（正胶还是负胶）。
判断题如果掩模版上绝大多数部分是不透光的区域，只有很少一部分透光，这种掩模版称为亮场掩模版。
判断题掩模版一般是在石英玻璃涂抹上一定形状的铬等材料，形成明暗相间的图形。
判断题制作MOS管时，一般先进行源的注入，再进行漏的注入。
判断题CMOS制作时，源、漏、栅等结构都做在场氧化区。
