论述题 简述在热氧化过程中杂质再分布的四种可能情况。

【参考答案】

如果假设硅中的杂质分布是均匀的，而且氧化气氛中又不含有任何杂质，则再分布有四种可能。①分凝系数m＜l，且在SiO₂中是慢扩散的杂质，也就是说在分凝过程中杂质通过SiO₂表面损失的很少，硼就是属于这类。再分布之后靠近界面处的SiO₂中的......

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