物理蒸镀就是把物质加热挥发，然后将其蒸气沉积在预定的基材上。由于蒸发源须加热挥发，又是在真空中进行，故亦称为热蒸镀或真空蒸镀。 其可分为三个步骤 （1）凝态的物质被加热挥发成汽相 （2）蒸汽在具空中移动一段距离至基材 （3）蒸汽在基材上冷却凝结成薄膜
问答题膜厚的量测方法有哪些？
问答题薄膜要有良好的附着力，必须具有哪些基本特性？
问答题沉积的薄膜有内应力的存在，其来源为何？
问答题良好的薄膜须具备哪些特性？影响的因素有哪些？
问答题何为化学气相蒸镀（CVD）？主要的优缺点有哪些？
