大致上可分为原位量测、离位量测两类 原位星测系指镀膜进行中量测,普遍使用在物理气相沉积,如微天平、光学、电阻量测。 离位量测系指镀膜完成后量测,对电镀膜的行使较为普遍,具有了解电镀效率的目的,如质量、剖面计、扫描式电子显微镜。
问答题薄膜要有良好的附着力,必须具有哪些基本特性?
问答题沉积的薄膜有内应力的存在,其来源为何?
问答题良好的薄膜须具备哪些特性?影响的因素有哪些?
问答题何为化学气相蒸镀(CVD)?主要的优缺点有哪些?
问答题使用CVD法成长钻石薄膜,氢元素和碳元素的浓度有何重要性?
问答题试说明CVD法生长钻石薄膜之特性?
问答题试说明PVD法生长钻石薄膜之特性?
问答题钻石薄膜通常可使用哪些方法来获得?
问答题钻石材料具有那哪些优点?可应用在哪些产业上?
问答题CVD制程具有哪些优缺点?
问答题电浆辅助VCD系统具有何特色?
问答题CVD化学气相沉积法反应步骤可区分为几个步骤?
问答题TiN氮化钛镀膜具有哪些特点?
问答题真空蒸镀可应用在哪些产业?
问答题蒸镀的加热方式包括几种?各具有何特点?