支架打磨过程中引起的变形使支架与模型不贴合，处理措施为（）

单项选择题铸件抛光后表面还是粗糙，出现这种情况时应（）

A.重新铸造支架
B.按照抛光的原则重新抛光
C.使用砂针进行调磨
D.使用树脂填平铸件表面
E.以上都正确

单项选择题打磨时引起支架折断的原因中，错误的是（）

A.某一点打磨过多
B.抛光时用力过大
C.抛光方向不正确
D.抛光时支架握持不稳
E.打磨过程中没有及时冷却使支架升温

单项选择题打磨抛光过程中因没有及时冷却，使支架升温可引起（）

A.支架的折断
B.支架的变形
C.抛光后的支架粗糙
D.抛光后的支架高度光亮
E.抛光后的支架表面光泽度不好

单项选择题电解时铸件凹陷部分覆盖较（），薄膜电阻（）、电流（），溶解（）。

A.薄；小；大；较多
B.厚；大；小；较少
C.薄；大；小；较多
D.厚；小；大；较少
E.厚；小；大；较多

单项选择题电解时铸件凸起部分覆盖较（），薄膜电阻（）、电流（），溶解（）。

A.薄；小；大；较多
B.厚；大；小；较少
C.薄；大；小；较多
D.厚；小；大；较少
E.厚；小；大；较多

单项选择题关于电解抛光的说法中，错误的是（）

A.凹陷部分覆盖较厚，薄膜电阻大、电流小
B.电解抛光过程中要防止搅动电解液
C.根据不同合金选择适当的电解质
D.电解液要新鲜、干净，并定期更换
E.电解结束后用10%氢氧化钠溶液处理铸件10分钟

单项选择题电解抛光结束后，从槽内取出铸件，用热水清洗干净，再放入70～80℃的10%（）溶液中处理10分钟。

A.双氧水
B.硫酸钠
C.氟化钠
D.生理盐水
E.氢氧化钠

单项选择题电解抛光结束后，从槽内取出铸件，用热水清洗干净，再放入（）的10%氢氧化钠溶液中处理10分钟。

A.30～40℃
B.40～50℃
C.50～60℃
D.60～70℃
E.70～80℃

单项选择题电解抛光结束后，从槽内取出铸件，用热水清洗干净，再放入70~80℃的10%氢氧化钠溶液中处理（）。

A.5分钟
B.8分钟
C.10分钟
D.15分钟
E.20分钟

单项选择题电解抛光时，把电解液注入电解槽内，加温预热至（）

A.30～40℃
B.40～50℃
C.50～60℃
D.60～70℃
E.70～80℃