A.支架的折断 B.支架的变形 C.抛光后的支架粗糙 D.抛光后的支架高度光亮 E.抛光后的支架表面光泽度不好
单项选择题电解时铸件凹陷部分覆盖较(),薄膜电阻()、电流(),溶解()。
A.薄;小;大;较多 B.厚;大;小;较少 C.薄;大;小;较多 D.厚;小;大;较少 E.厚;小;大;较多
单项选择题电解时铸件凸起部分覆盖较(),薄膜电阻()、电流(),溶解()。
单项选择题关于电解抛光的说法中,错误的是()
A.凹陷部分覆盖较厚,薄膜电阻大、电流小 B.电解抛光过程中要防止搅动电解液 C.根据不同合金选择适当的电解质 D.电解液要新鲜、干净,并定期更换 E.电解结束后用10%氢氧化钠溶液处理铸件10分钟
单项选择题电解抛光结束后,从槽内取出铸件,用热水清洗干净,再放入70~80℃的10%()溶液中处理10分钟。
A.双氧水 B.硫酸钠 C.氟化钠 D.生理盐水 E.氢氧化钠
单项选择题电解抛光结束后,从槽内取出铸件,用热水清洗干净,再放入()的10%氢氧化钠溶液中处理10分钟。
A.30~40℃ B.40~50℃ C.50~60℃ D.60~70℃ E.70~80℃
单项选择题电解抛光结束后,从槽内取出铸件,用热水清洗干净,再放入70~80℃的10%氢氧化钠溶液中处理()。
A.5分钟 B.8分钟 C.10分钟 D.15分钟 E.20分钟
单项选择题电解抛光时,把电解液注入电解槽内,加温预热至()
单项选择题铸件打磨抛光的原则中,错误的是()
A.打磨压力要大,速度要快 B.用来打磨的砂轮按照由粗到细的顺序使用 C.铸造支架的磨光顺序应严格按照由粗到细的原则 D.应注意防止卡环、支托的变形 E.打磨方向尽量与支架局部的方向轴一致
单项选择题技工打磨机打磨时用力一般为()
A.25~50g B.50~100g C.100~150g D.150~200g E.200~250g
单项选择题技工打磨机通用的针柄直径为()
A.0.85mm B.1.67mm C.1.98mm D.2.35mm E.3.50mm