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单项选择题

一个以P-Si为衬底的理想MOS结构中,()

A.其栅氧化层厚度越小,阈值电压越大
B.其衬底掺杂浓度越高,阈值电压越大
C.其阈值电压必定是负的
D.其衬底费米势肯定是负的