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单项选择题

A.该结构衬底为P型硅,是增强型MOS结构B.该结构衬底为N型硅,是增强型MOS结构C.该结构衬底为P型硅,是……

已知一个MOS结构,若不考虑金属—半导体之间的功函数差及有效表面态电荷的影响,其阈值电压为1V,若考虑金属—半导体之间的功函数差及有效表面态电荷的影响,其阈值电压为-1V,则()

A.该结构衬底为P型硅,是增强型MOS结构
B.该结构衬底为N型硅,是增强型MOS结构
C.该结构衬底为P型硅,是耗尽型MOS结构
D.该结构衬底为N型硅,是耗尽型MOS结构