A.反刻B.CMPC.SOGD.高温回流
单项选择题以下工艺中，方块电阻是一个重要的参数，一般用于衡量（）工艺中杂质情况。
A.氧化B.扩散C.光刻D.刻蚀
单项选择题在制作MOS管时，采用LOCOS工艺容易出现（）。
A.沟道效应B.鸟嘴效应C.寄生效用D.闩锁效应
