A.银B.金C.铝D.铜
单项选择题进行沟槽填充常用的金属材料是（）。
A.铜B.铝C.钨D.金
单项选择题化学机械抛光液的主要成分不包括的是哪个？（）
A.还原剂B.分散剂C.腐蚀介质D.磨料
多项选择题CMP的设备构成包括（）。
A.台板B.抛光液C.抛光垫D.夹持设备
多项选择题新的平坦化方法有哪几个？（）
A.固结磨料CMP技术B.无磨粒CMP技术C.无应力抛光技术D.电化学机械平坦化技术
多项选择题光刻工艺对准误差包括（）。
A.上下偏移B.X或Y方向的平移C.转动D.套准误差
