A.浸渍提拉法B.旋覆法C.喷涂法D.等离子体法
单项选择题磁控溅射与二级溅射相比的特点是（）
A.结构简单B.镀膜速率慢C.基片温度低、损伤小D.靶材利用率高
单项选择题基片浸入预先制备好的溶胶中，以一定的速度将基片向上提出液面，这时在基片上会形成一层均匀的液膜，这种方法是（）
A.旋覆法B.喷涂法C.浸渍提拉法D.刷涂法
