氧化层中掺杂了硼杂质，一般称为（）。

单项选择题如果制作栅氧结构，一般采用的方法是（）。

A.湿氧氧化
B.氢氧合成
C.CVD
D.干氧氧化

单项选择题版图设计中下述哪个不是金属2和金属3之间的通孔所用到的图层：（）。

A.金属2
B.金属3
C.孔2
D.孔3

单项选择题下列版图中显示的图层不会被制成掩膜版的是：（）。

A.多晶层
B.电阻标识层
C.有源区层
D.金属层

单项选择题下列哪个命令是用来对调用的symbol视图进行的下级电路查看和修改的？（）

A.descend edit
B.descend read
C.return
D.return to top

单项选择题下列可以运行cadence设计软件运行的操作系统是：（）。

A.win7
B.win10
C.solaris
D.DOS

单项选择题集成电路设计按（）分一般可分为双极集成电路设计、MOS集成电路设计。

A.自动化程度
B.器件类型
C.电路类型
D.工艺类型

单项选择题下列哪个图层不属于组成N保护环所用到的图层？（）

A.N阱
B.有源区
C.多晶
D.金属1

单项选择题常用的版图验证工具主要有DIVA、DRACULA、calibre以及ASSURA等，其中mentor公司的验证工具是：（）。

A.DIVA
B.DRACULA
C.caliber
D.Assura

单项选择题LVS错误类型中显示MOS管“property errors”与版图中MOS管的哪个参数无关？（）

A.沟道宽度
B.沟道长度
C.沟道类型
D.以上都不是

单项选择题物理验证时，错误条目显示为金属间距不满足最小尺寸，则该错误属于哪种错误范畴？（）

A.DRC
B.LVS
C.ERC
D.EXT