A.在淀积的铝膜中掺入约1%SiB.在淀积的铝膜中掺入约1%CuC.在铝膜表面覆盖Si3N4D.在淀积铝之前先淀积一薄层TiN薄膜
多项选择题关于光学光刻,下列哪种方法可以获得高分辨率()
A.光源为紫光B.使用移相掩膜技术制备的光刻版C.采取浸入式光刻方法D.驻波效应对分辨率无影响
多项选择题溅射与蒸镀比较,下列那种说法正确()
A.蒸镀工艺的普适性更好B.溅射工艺的普适性更好C.溅射工艺薄膜质量(如粘附性、保形性等)更好D.蒸镀工艺薄膜质量(如粘附性、保形性等)更好
多项选择题从两电极面积判断射频溅射时,靶放在那个电极上、衬底放在那个电极上()
A.衬底放在面积大的电极上B.靶放在面积大的电极上C.衬底放在面积小的电极上D.靶放在面积小的电极上
单项选择题为了避免尖楔现象用含1%硅的硅铝合金制备IC内电极,多采用下列哪种工艺方法()
A.射频溅射B.LPCVDC.电阻蒸镀D.PECVD
单项选择题poly-Si薄膜通常是采用什么方法制备的()
A.PECVDB.LPCVDC.APCVDD.LCVD