①为了能获得足够的蒸镀速度,要求蒸发源能加热到材料的平衡蒸气压在1.33×10-2-1.33Pa的温度。 ②存放蒸发材料的小舟或坩埚,与蒸发材料不发生任何化学反应。 ③能存放为蒸镀一定膜厚所需要的蒸镀材料。
问答题分子外延术的优点是什么?
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问答题简述非晶态材料微观结构的基本特征,制备的关键技术。
问答题简述骤冷法制备非晶的方法。
问答题如何获得半导体化?