问答题下图为直流等离子放电的I-V曲线，请分别写出a-g各段的名称。可用作半导体制造工艺中离子轰击的是其中哪一段？试解释其工作原理。
问答题简述几种典型真空泵的工作原理。
问答题什么是扩散效应？什么是自掺杂效应？这两个效应使得衬底 外延界面杂质分布有怎样的变化？
问答题下图为硅外延生长速度对H2中SiCL4摩尔分量的函数曲线，试分析曲线走势，并给出其变化的原因。
问答题影响外延薄膜的生长速度的因素有哪些？
