论述题

下图为硅外延生长速度对H₂中SiCL₄摩尔分量的函数曲线，试分析曲线走势，并给出其变化的原因。

【参考答案】

SiCL₄浓度较小，SiCL₄被氢还原析出硅原子的速度远小于被释放出来的硅原子在衬底上生成单晶硅速度，化学反应速度控制外延层的生长速率；增加SiCL₄浓度，化学反应速率加快，生长速度提高。浓度大到一定程度，化学反应释放硅原子速度大于硅......

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