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问答题

简答题 什么是两步扩散工艺,其两步扩散的目的分别是什么?

【参考答案】

实际的扩散温度一般为900-1200℃,在这个温度范围内,杂质在硅中的固溶度随温度变化不大,采用恒定表面源扩散很难通过改变温度来控制表面浓度,而且很难得到低表面浓度的杂质分布形式。两步扩散:采用两种扩散结合的方式。第一步称为预扩散或者预淀积:在较低温度下,采用恒定表面源扩散方式。在硅片......

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