A.化学气相沉积B.离子束辅助沉积C.多弧离子镀D.分子束外延在清洁的超高真空环境下，是具有一定热能的一种或多……

单项选择题两极间接上射频电源后，两极间等离子体中的正离子轰击靶材、溅射出靶材原子从而沉积在基板表面成膜的技术是（）

A.直接三级溅射
B.磁控溅射
C.射频溅射
D.直流二级溅射

单项选择题通过物理法和化学法可以得到所需的纳米薄膜材料，属于物理法制备纳米薄膜材料的是（）

A.激光诱导化学气相沉积
B.溶胶-凝胶法
C.金属有机物化学气相沉积
D.磁控溅射法

单项选择题直流溅射是利用直流辉光放电产生离子轰击靶材进行溅射镀膜的技术，靶材固定在（）极。

A.阴
B.空
C.阳

单项选择题真空蒸发制膜中，蒸发源在高温下会放气，所以，在蒸发源通电加热之前，可以（），然后对膜材加热去气。

A.提高真空度
B.提高真空室温度
C.用挡板挡住基片
D.增加蒸发源到基片的距离

判断题化学气相沉积（CVD）法的源材料直接为气体，在高温或等离子条件下生长一维纳米材料。