A.直接三级溅射B.磁控溅射C.射频溅射D.直流二级溅射两极间接上射频电源后，两极间等离子体中的正离子轰击靶材……

单项选择题通过物理法和化学法可以得到所需的纳米薄膜材料，属于物理法制备纳米薄膜材料的是（）

A.激光诱导化学气相沉积
B.溶胶-凝胶法
C.金属有机物化学气相沉积
D.磁控溅射法

单项选择题直流溅射是利用直流辉光放电产生离子轰击靶材进行溅射镀膜的技术，靶材固定在（）极。

A.阴
B.空
C.阳

单项选择题真空蒸发制膜中，蒸发源在高温下会放气，所以，在蒸发源通电加热之前，可以（），然后对膜材加热去气。

A.提高真空度
B.提高真空室温度
C.用挡板挡住基片
D.增加蒸发源到基片的距离

判断题化学气相沉积（CVD）法的源材料直接为气体，在高温或等离子条件下生长一维纳米材料。

单项选择题当表面活性剂分子浓度达到临界胶束浓度时，表面活性剂分子在溶剂中开始形成胶束，临界胶束浓度越小说明表面活性剂形成胶束能力（）

A.无关
B.越强
C.越弱
D.不一定