判断题离子注入是集成电路制造中最为重要的工序。
判断题集成电路制造与集成电路设计相关纽带是光刻掩膜版。
判断题NMOS源漏城需进行N+型掺杂。
判断题NMOS是在N阱上形成P沟道的MOSFET晶体管。
判断题PMOS是在N阱上形成P沟道的MOSFET晶体管。
判断题集成电路制造需要在告别净化环境下进行,通常净化室内气压应高于净化室外气压。
判断题集成电路制造需要在告别净化环境下进行,而光刻区对净化级别要求最高,如普通制造环境为1000级,则光刻区的净化环境则为10000级。
判断题用EDA软件(如Cadence)画集成电路版图,不需要建立层次和单元,只需用Createrectangle命令一个器件一器件的画,相同的器件用copy命令copy一下就可以了。
判断题在集成电路版图设计中,器件之间的联接是通过引线孔和金属层联接的,如有源区的引出,多晶硅电阻的联接。
判断题建立一个新的layout cell view时不一定需要重建一个新的library,有时只需要在一个已有的library中再开一个新的cellview就可以了。
判断题在运行PDRACULA检查LVS时,软件告诉我要运行的STAGE的数字如果等于大于或不等于运行jxrun.com文件是得STAGE的数字,这说明我的错改少了。
判断题在运行PDRACULA检查DRC时,软件告诉我要运行的STAGE的数字如果大于或不等于运行jxrun.com文件是得STAGE的数字,这说明我的错改少了。
判断题在Virtuoso layout的快捷键命令中,f是fit整个layout画面的意思,那么k是是copy一个图形的意思。
判断题在Virtuoso layout的快捷键命令中,f是fit整个layout画面的意思,那么m是移动一个图形的意思。
判断题在Virtuoso layout的快捷键命令中,f是fit整个layout画面的意思,那么r是代表清除尺子的意思。