1.分滴，当硅片静止或者旋转得非常缓慢时，光刻胶被分滴在硅片上 2.旋转铺开，快速加速硅片的旋转到一高的转速使光刻胶伸展到整个硅片表面 3.旋转甩掉，甩去多余的光刻胶，在硅片上得到均匀的光刻胶胶膜覆盖层 4.溶剂挥发，以固定转速继续旋转已涂胶的硅片，直至溶剂挥发，光刻胶胶膜几乎干燥
问答题在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？
问答题例出光刻的8个步骤，并对每一步做出简要解释。
