简答题 例出光刻的8个步骤，并对每一步做出简要解释。

【参考答案】

第一步：气相成底膜处理，其目的是增强硅片和光刻胶之间的粘附性。
第二步：旋转涂胶，将硅片被固定在载片台上，一定数量的液体光刻胶滴在硅片上，然后硅片旋转得到一层均匀的光刻胶图层
第三步：软烘，去除光刻胶中的溶剂
第四步：对准和曝光，把掩膜版图形转移到涂胶的硅片上
第五步......

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