填空题区熔法由于不使用坩埚，污染少，经区熔提纯后生长的（）较高，（）和（）低。
填空题一般情况下，直拉法拉制的硅单晶电阻率大于（）欧姆•厘米，质量很难控制。
填空题用直拉法制备硅单晶时，用（）插入熔体表面，待与熔体熔接完成后，慢慢向上提拉完成长晶过程。
填空题用直拉法制备硅单晶时，把（）放入（），在硅单晶炉内进行熔化。
填空题（）也叫切克劳斯基（Czochralsik）方法，此法早在1917年由切克斯基建立的一种晶体生长方法，后来经过很多人的改进，成为现在制备单晶硅的主要方法。
