判断题通过引入耗尽近似，耗尽层内部的电荷密度完全正比于净杂质浓度。
判断题通常的内建电势小于禁带宽度对应的电压值。
判断题冶金结附近的空间电荷是由p型一侧电子和n型一侧空穴的积累引起的。
判断题P沟道的短沟道MOSFET 更容易发生横向双极击穿。
判断题MOSFET的沟道夹断总是先于速度饱和发生。
