半导体生产过程传统的控制手段主要是固定工艺方案的单变量常规控制，比如（）、压力等环境参数的定值控制。

单项选择题积分会消除余差，所以当比例控制产生的余差超过限定值时，可使用比例积分控制器，在反馈控制器中，约有（）是采用PI控制器的。

A.60%
B.65%
C.75%
D.80%

单项选择题以石油、化工过程为例，接近（）的控制回路均采用以PID控制为基础的常规控制。

A.60%
B.70%
C.80%
D.90%

单项选择题建模本身需要在模型精度和（）之间进行折中。

A.模型复杂度
B.简化模型
C.机理建模
D.建模的对象

单项选择题一般情况下存在着（）、误差不变性、稳态不变性、选择不变性四种“不变性”类型。

A.相对不变性
B.绝对不变性
C.静态不变性
D.固定不变性

单项选择题控制器参数有很多整定方法，用经验法整定时可将系统按流量系统、液位系统、（）、压力系统进行参数整定。

A.气体系统
B.固定系统
C.温度系统
D.温控系统

单项选择题建立气罐的压力动态模型可以从物料平衡关系式和（）状态方程来进行。

A.液体
B.固体
C.气体
D.三体

单项选择题主要的时域指标包括衰减比、超调量与（）、余差、调节时间和振荡频率、上升时间和峰值时间。

A.最大动态偏差
B.最差动态偏差
C.最大静态偏差
D.最小动态偏差

单项选择题具体以某一加热用换热器为例，假设载热体为70--80°C的热水，而工艺介质的入口温度接近常温，需要将其加热至（）。

A.80°C
B.70°C
C.50°C
D.90°C

单项选择题（）就是指输入变量变化后看不到系统对其响应的这段时间。

A.纯滞后
B.单容过程
C.多容过程
D.双容过程

单项选择题常见的运算单元包括：加减器、（）、乘法器和开方器等。

A.计时器
B.放大器
C.比值器
D.计数器