半导体硅的常用液体试剂腐蚀剂中HCL的浓度大致为（）

单项选择题（）是最简单的点缺陷。

A.外来原子
B.填隙原子
C.空位
D.络合体

单项选择题（）是目前国内最常用的判断半导体导电类型的方法。

A.三探针法
B.单探针点接触整流法
C.冷热探笔法
D.冷探笔法

单项选择题（）是半导体中最主要的缺陷，它属于线缺陷。

A.杂质沉淀
B.位错
C.层错
D.空位

单项选择题（）对半导体单晶电化学腐蚀速度的影响最大。

A.缓冲剂
B.腐蚀液的成分
C.电极电位
D.腐蚀处理的温度和搅拌