判断题MOCVD通常用于制备外延薄膜。
判断题温度越高，吸附原子解吸附越快，所以扩散距离越短。
判断题溅射镀膜中，气压越高，入射离子越多，因此沉积速率越快。
判断题磁控溅射可以是直流溅射，也可以是射频溅射。
判断题化学气相沉积中，提高气体流速，可加快薄膜的沉积速率。
