A.CoaterB.ExposureC.DevelopD.OvenMask是在哪个step使用到的部件（）……

单项选择题PI MAINCURE的温度是多少（）

A.300
B.270
C.250
D.230

单项选择题PI工程一共进行几次OVEN（）

A.1
B.2
C.3
D.4

单项选择题PR成分中，除Resin sensitizer additives外，还有什么（）

A.酒精
B.NEGA
C.POSI
D.Solvent

单项选择题PHOTO工程曝光机设备构造中，不包含的是（）

A.照明光学系
B.投影光学系
C.MASK STAGE
D.除震系统

单项选择题在Gate Step中，得到Gate Pattern的顺序是（）

A.Cleaning->Gate Depo->Photo->WET Etch
B.Cleaning->Gate Depo->Photo->DRY Etch
C.Gate Depo->Cleaning->Photo->WET Etch
D.Cleaning->Photo->Gate Depo->WET Etch