A.300 B.270 C.250 D.230
单项选择题PI工程一共进行几次OVEN()
A.1 B.2 C.3 D.4
单项选择题PR成分中,除Resin sensitizer additives外,还有什么()
A.酒精 B.NEGA C.POSI D.Solvent
单项选择题PHOTO工程曝光机设备构造中,不包含的是()
A.照明光学系 B.投影光学系 C.MASK STAGE D.除震系统
单项选择题在Gate Step中,得到Gate Pattern的顺序是()
A.Cleaning->Gate Depo->Photo->WET Etch B.Cleaning->Gate Depo->Photo->DRY Etch C.Gate Depo->Cleaning->Photo->WET Etch D.Cleaning->Photo->Gate Depo->WET Etch
单项选择题PHOTO设备中VCD的作用是()
A.涂布光刻胶 B.清洗glass基板 C.加热干燥,去除光刻胶里面的solvent D.真空干燥,去除光刻胶里面的solvent