判断题制作MOS管结构时,源漏虽然结构完全对称,但掺杂浓度不同。
判断题linux中命令输完以空格结尾。
判断题全定制设计和半定制设计相比,半定制设计的设计要求更高。
判断题N阱内放置的保护环类型是N+掺杂类型。
判断题使用calibre工具做LVS验证时,需要用到设计规则文件。