问答题

简答题简述背沟道刻蚀型结构的优缺点。

【参考答案】

优点是光刻次数少，材料成本低，工艺节拍短；缺点是刻蚀选择比小，a-Si：H层相应要做得厚些，一般为1500~2000Å，工艺难度大，厚度控制要求严格。

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