问答题简述真空蒸镀的原理。
问答题简述特殊活性原料的获得方法及效果。
判断题CVD 工艺是在较低压力和较底温度下进行的,不仅用来增密炭基材料,还可增强材料断裂强度和抗震性能。
判断题CVD 技术中通过沉积反应易于生成所需要的材料沉积物,而沉积物均易挥发而留在气相排出或易于分离。
判断题强制对流是自流体因温度或浓度所产生的密度差所导致的。