A.酒精B.NEGAC.POSID.SolventPR成分中，除Resin sensitizer additi……

单项选择题PHOTO工程曝光机设备构造中，不包含的是（）

A.照明光学系
B.投影光学系
C.MASK STAGE
D.除震系统

单项选择题在Gate Step中，得到Gate Pattern的顺序是（）

A.Cleaning->Gate Depo->Photo->WET Etch
B.Cleaning->Gate Depo->Photo->DRY Etch
C.Gate Depo->Cleaning->Photo->WET Etch
D.Cleaning->Photo->Gate Depo->WET Etch

单项选择题PHOTO设备中VCD的作用是（）

A.涂布光刻胶
B.清洗glass基板
C.加热干燥，去除光刻胶里面的solvent
D.真空干燥，去除光刻胶里面的solvent

单项选择题PHOTO工程最主要的三个Process是（）

A.Clean，Coating，Develop
B.Depo，PHOTO，WET Etch
C.Coating，Exposure，Develop
D.Exposure，Develop，IR Oven

单项选择题下面哪一个不属于PHOTO Cleaner的构成（）

A.In Conveyer
B.E-UV
C.AA-JET
D.AIR Knife