TFT工程4 Mask中，需要wet刻蚀的膜有几层？（）……

单项选择题Line Wet Etch采用的刻蚀方式（）

A.Time Etch
B.EPD Etch
C.OVER ETCH
D.JUST ETCH

单项选择题Etchant管理的要素包含（）

A.温度
B.成分
C.更换时间
D.以上全部

单项选择题以下不良不属于Hard Defect的是（）

A.Broken
B.Crack
C.Scratch
D.Taint

单项选择题以下不属于Inline Scribe的单元是（）

A.Laser Mark
B.Main Scribe
C.Edge Grind
D.Edge Inspection

单项选择题下列哪一项不是UT部门管理的设备？（）

A.变电站
B.PHOTO曝光机
C.锅炉
D.工艺冷却水