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单项选择题

A.扩散炉B.离子注入机C.加热平板D.对流烘箱利用高温驱动杂质渗透进半导体内,此工序采用的设备是()……

利用高温驱动杂质渗透进半导体内,此工序采用的设备是()

A.扩散炉
B.离子注入机
C.加热平板
D.对流烘箱