填空题等离子增强反应沉积中,由于等离子体中()、()和()相互碰撞,可以大大降低沉积温度,例如硅烷和氨气的反应在通常条件下,约在850℃左右反应并沉积氮化硅,但在等离子体增强反应的条件下,只需在350℃左右就可以生成氮化硅。
填空题在MOCVD过程中,金属有机源可以在()或()作用下,在较低温度沉积出相应的各种无机材料。
填空题电解槽中的离子导体除常见的电解质溶液外,尚有()、()或超临界流体等。
填空题电极过程大致可分为以下三类:()、气体电极过程和电解氧化还原。
填空题通常所说的电解液按其组成及结构可分为()和()两大类。电解质溶液按溶剂不同又分为电解质水溶液和非水电解质溶液。