A.Module工程 B.TFT工程 C.CF工程 D.LC工程
单项选择题下列设备中用来检查Glass清洗效果的是()
A.PC COUNTER B.Macro Scope C.CST CLEANER D.Hard Baker
单项选择题TFT工程4 Mask中,需要wet刻蚀的膜有几层?()
A.1 B.2 C.3 D.4
单项选择题Line Wet Etch采用的刻蚀方式()
A.Time Etch B.EPD Etch C.OVER ETCH D.JUST ETCH
单项选择题Etchant管理的要素包含()
A.温度 B.成分 C.更换时间 D.以上全部
单项选择题以下不良不属于Hard Defect的是()
A.Broken B.Crack C.Scratch D.Taint