判断题AFM通常用来观测样品表面形貌。
判断题TEM观测与SEM相同，对样品厚度没有要求。
判断题通常利用TEM观测的分辨率高于SEM。
单项选择题光刻技术中的反刻工艺，通常应用于（）的情况。
A.对光刻精度较高 B.光刻图案密度较高 C.光刻的材料易于腐蚀 D.光刻的材料难以腐蚀
单项选择题在CMOS工艺中，最为昂贵的步骤是：（）
A.腐蚀 B.离子注入 C.光刻 D.CVD
