A.整流效应 B.温差电效应 C.以上二种皆可 D.以上二种皆不可
单项选择题缓冲剂一般是（）。
A.弱酸弱碱 B.弱碱 C.弱酸 D.强酸强碱
单项选择题层错属于（）
A.杂质沉淀 B.线缺陷 C.面缺陷 D.点缺陷
单项选择题半导体器件厂就是用一定型号的（）来生产出所需要的半导体元件。
A.多晶 B.非晶 C.单晶 D.以上皆不是
单项选择题半导体硅的常用液体试剂腐蚀剂中HCL的浓度大致为（）
A.70% B.30% C.49% D.36%
单项选择题（）是最简单的点缺陷。
A.外来原子 B.填隙原子 C.空位 D.络合体
