三氯氢硅中痕量杂质的化学光谱测定主要试剂表述错误的有（）

多项选择题气相色谱法测定H2的组分时职业健康安全运行控制正确的是（）

A.存在环境因素：潜在的氢气泄漏引起的燃和爆炸
B.下班时将窗全部关闭
C.高压气瓶应该个开放置
D.在进入有H₂的实验室时，应先通风

单项选择题质谱的定量分析是在质谱图上，谱线的峰值所对应的离子流强度即谱线的黑度代表了（）从而进行杂质分析。

A.离子的运动
B.离子的质量
C.离子的温度
D.离子的浓度

单项选择题全自动软化系统逆洗时进口水压维持在（）bar左右，以利冲洗。

A.1.5-2
B.0-1
C.1-1.5
D.0-1.5

单项选择题气相色谱法测定干法H2的组分岗位存在的环境因素是（）

A.液氮低温冻伤
B.没有明显危险源
C.潜在氢气泄露引起的爆炸
D.温度过高

单项选择题露点法测定气体中水分的设备环境要求是保持工作环境高纯卫生，温度4-40度，相对湿度小于（），现场整洁，无腐蚀性气体，不得有电路和火种。

A.95%
B.92%
C.90%
D.85%