A.电阻加热 B.电子束 C.蒸气原子
单项选择题将预先制好的掩膜直接和涂有光致抗蚀剂的晶片表面接触，再用紫外光照射来进行曝光的方法，称为（）曝光。
A.接触 B.接近式 C.投影
单项选择题光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺（）
A.刻制图形 B.绘制图形 C.制作图形
