A.目的是做线状PatternB.可以用Photo工程代替C.使用激光进行D.对UV工程没有任何影响以下对Tr……

单项选择题以下对BM描述不正确的是（）

A.PR是黑色的
B.需要曝光
C.Pattern成格子状
D.上板第2个Step

单项选择题以下对CS描述不正确的是（）

A.需要曝光
B.Pattern为圆球状
C.CS具有弹性
D.对液晶的量有影响

单项选择题上板工艺中不属于BCS部门制作的是（）

A.BM
B.CS
C.上板ITO
D.Trimmer

单项选择题Line目前使用的Glass尺寸是（）

A.2000*2200
B.2200*2500
C.2200*2250
D.2250*2500

单项选择题以下不属于FAB工程的是（）

A.Module工程
B.TFT工程
C.CF工程
D.LC工程