A.曝光度B.显影液浓度C.显影方法D.工序的温度和时间容量影响显影工艺的因素有（）。……

多项选择题下列哪些是进行光刻前的预处理的步骤？（）

A.脱水烘烤
B.旋转涂布法涂HMDS
C.气拍涂底法涂HDMS
D.软烘

多项选择题根据曝光模式，光制机的种类分为（）。

A.接触式曝光
B.接近式曝光
C.扫描式曝光
D.投影式曝光

多项选择题刻蚀的过程中，对刻蚀的要求是（）

A.图形的保真度高
B.选择比越接近1：1越好
C.均匀性好
D.晶圆表面的洁净

多项选择题以下属于刻蚀环节质量要求的是（）

A.均匀性好
B.图形保真度高
C.选择比低
D.洁净度高

多项选择题最常用的砷化镓的湿法刻蚀腐蚀液包括（）

A.硫酸
B.氢氟酸
C.双氧水
D.去离子水