低压CVD：气相输运和反应。低压下气体扩散系数增大，使气态反应物和副产物的质量传输速率加快，形成薄膜的反应速率增加。 等离子CVD：等离子体参与的利用在等离子状态下粒子具有的较高能量，使沉积温度降低。
问答题简述CVD的必要条件？
问答题简述离子镀膜的优缺点？
问答题简述二极直流溅射、偏压溅射、三极或四极溅射、射频溅射、磁控溅射、离子束溅射结构及原理？
问答题简述溅射机理？如何提高溅射率？
问答题简述点蒸发和小平面蒸发源特性，如何改善蒸镀存在的膜厚均匀性问题。
