问答题热退火用于消除离子注入造成的损伤，温度要低于杂质热扩散的温度，然而，杂质纵向分布仍会出现高斯展宽与拖尾现象，解释其原因。
问答题什么是离子分布的偏斜度和峭度，和标准高斯分布有什么区别？
问答题什么是离子注入的横向效应？同等能量注入时，As和B哪种横向效应更大？为什么？
问答题采用无定形掩膜的情况下进行注入，若掩蔽膜 衬底界面的杂质浓度减少至峰值浓度的1 10000，掩蔽膜的厚度应为多少？用注入杂质分布的射程和标准偏差写出表达式。
问答题离子在靶内运动时，损失能量可分核阻滞和电子阻滞，解释什么是核阻滞、电子阻滞？两种阻滞本领与注入离子能量具有何关系？
